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agc濺射靶材的成膜技巧及用途示例分析
顯示相關光學薄膜
觸摸屏用折射率匹配膜
減反射膜
堿性保護膜
數碼相機用ND濾鏡
等
1) 增透膜
當薄膜的折射率為n1、膜厚為d時，當薄膜的光學距離為n1?d=λ/4（光的波長的1/4倍）時，反射率變得最小，因為光的干涉效應。馬蘇。此外，可以通過在最佳光學設計下層壓高折射率和低折射率薄膜來形成減反射膜。
2) 薄膜太陽能電池用透明導電膜（薄膜Si型、CIGS型）
3) 建材用Low-E玻璃用介電膜（金屬與氧化物的層疊膜）
[太陽能電池（CIGS系統）]
AZO薄膜的作用是傳輸光以利用太陽能發電，并讓所產生的電力像電線一樣流動。
[Low-E玻璃]
金屬和氧化物薄膜層疊起來可以阻擋太陽光的紅外線和紫外線。ST薄膜起到保護這些薄膜免受酸雨和劃痕的作用。
將薄膜所需的功能（導電性、透過率、反射率、吸收性、耐堿性等）融入到目標組合物中，提供各種組合物的目標產品陣容。
我們還接受有關標準陣容以外的作品的個人咨詢。
我們的光學薄膜目標范圍廣泛，從低折射率薄膜（n=1.46）到中折射率薄膜（n=1.7至2.0）和高折射率薄膜（n=2.2至2.4）。從這些產品陣容中，我們選擇滿足客戶需求的目標，并利用光學模擬技術提出光學多層膜設計。
[濺射的特點]
能夠在大面積基材上成膜
能夠形成與基材附著力強的薄膜
即使是高熔點物質也可以成膜
膜厚分布均勻
可實現高精度薄膜質量和厚度控制
通過將惰性氣體（主要是氬氣）引入真空室并在基板和濺射靶材之間施加高直流或交流電壓，將氬氣等氣體轉變為等離子體。此時產生的離子被電場加速并與靶材碰撞，導致靶材成分飛出并附著在相對的基板表面上。這是利用這一原理在基板上形成納米到微米級薄膜的方法。
進行濺射的等離子體中的陰極壓降通常高達約400V，因此從靶材發射的濺射原子具有相當于約10eV的大能量。（這比氣相沉積產生的約0.2 eV的原子能大得多）。這些高能原子沉積在基材上形成薄膜，從而形成致密的薄膜，對基材具有很強的附著力。
隨著磁控濺射技術的建立，濺射方法的沉積速度顯著提高，大型在線鍍膜機的發展使生產率顯著提高。在此背景下，濺射技術未來有望繼續滿足各種新的需求。
